<< Нажмите, чтобы обновить оглавление >> Навигация:  »Страница главного уровня« Удаление освобождающихся элементов

При удалении объекта, который опирается на другие элементы, можно настроить и одновременное удаление этих элементов. Например, полилинии опираются на примитивы - при удалении полилинии можно либо одновременно удалить ее примитивы, либо их не удалять.

Настройка на удаление освобождающихся элементов производится в панели параметров непосредственно после вызова команды удаления объекта путем установки соответствующих значений в выпадающих списках. Затем в рабочем окне выбирается сам удаляемый объект.

Состав и количество освобождающихся элементов зависит исключительно от типа удаляемого объекта, а точнее - от уровня иерархии хранения информации о его геометрическом положении.

Суть настройки заключается в том, что при выборе значения Удалять в выпадающем списке для элемента верхнего уровня иерархии - становится доступным аналогичный выпадающий список элемента уровнем ниже. И так далее, до достижения уровня примитивов.

•Полилинии. Так же, как и сегменты видимости, полилинии опираются на примитивы. Поэтому при удалении полилиний можно настроить совместное удаление примитивов. Если удаление примитивов не производится, то появляется дополнительная возможность настроить создание на них сегментов видимости. Это позволит скрыть отображение примитивов и отобразить только те их участки, на которые опирались звенья полилинии.

•Примитивы. Примитивы являются элементами первого уровня, которые ни на что опираться не могут (все остальные объекты опираются на них, и при удалении примитива никакие элементы не освобождаются). Поэтому настроить совместное удаление нельзя.

•Сегменты видимости примитива. Объекты данного типа опираются на примитивы, поэтому при удалении такого объекта можно настроить совместное удаление только примитивов.

•Маски. Объекты следующего уровня иерархии, которые вне зависимости от способа их создания, всегда опираются на одну полилинию. Поэтому при их удалении можно настроить совместное удаление всех элементов предыдущих уровней.

•Контуры и Штриховки откосов. Так же как и маски, они всегда опираются на полилинию, но в отличие от первых - могут опираться не на одну, а на несколько полилиний, причем не обязательно свободных (на них уже могут опираться маски). Поэтому при их удалении можно настроить совместное удаление всех элементов предыдущих уровней и двух типов масок - графической и линейного тематического объекта, но только в том случае, если маска целиком лежит на освобождающемся сегменте полилинии.